VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

產品型號：VTC-600-2HD
廠商性質：代理商
更新時間：2024-12-04
訪問量：3414

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品牌	其他品牌	應用領域	環(huán)保,化工,電子
真空腔體	φ300 mm? x 300 mm H，采用不銹鋼制作

涂布

雙靶高真空磁控濺射儀

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

主

要

特

點

•體積小，操作簡便
•真空腔室、真空泵組整機模塊化設計，控制電源為分體式設計，可根據用戶實際需要調整購買需求。
•可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍，購買前請聯(lián)系我公司銷售。

基

本

參

數(shù)

●輸入電源：220V AC 50/60Hz
●功率：＜2KW（包含真空泵）
●濺射電源：安裝有兩個濺射電源：
●直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜
●射頻（RF）電源：300W，可制作氧化物和金屬膜

真空腔體：

●真空腔體：φ300 mm x 300 mm H，采用不銹鋼制作
●觀察窗口：φ100 mm
●腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

氣體流量控制器：

●儀器內部安裝有2個質量流量計，量程為：0-100sccm
●氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
●此系統(tǒng)運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含）

真空系統(tǒng)：

●配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)（德國制作）
●標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar（僅供參考，詳情請點擊）

薄膜測厚儀（可選）：

●一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å
●LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數(shù)據

產品尺寸：L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

凈重：160 kg

磁控濺射頭：

●儀器中安裝有2個2英寸磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層
●一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
●另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材
●靶材尺寸要求：直徑為50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
●可以單獨訂購RF連接線作為備用
●設備包含一臺水冷機，用于靶頭冷卻

載樣臺：

●載樣臺尺寸：φ140mm（最大可放置4"的基底）
●載樣臺可以旋轉，其速度為：1 - 20 rpm （可調）
●載樣臺最高可加熱溫度為500℃

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