軌道式勻膠顯影機
適用于8英寸及以下晶圓的勻膠顯影工藝
最大設備配置:2套勻膠（顯影）單元、4套熱（冷）板單元
可選8寸以下多種wafer尺寸全自動勻膠/顯影,烘烤工藝處理
整機性價比高,適合產能要求適中的批量產線
根據客戶工藝需求可加裝等離子風棒等模塊
可選配MES協(xié)議轉換模塊

產品型號：SH200-AT
廠商性質：代理商
更新時間：2024-12-04
訪問量：2584

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詳細介紹

品牌	其他品牌	應用領域	化工
旋轉速度范圍	20-5000rpm	加速度范圍	20-20000rpm/s
轉速精度	±1rpm	適用光刻膠粘度	0-1000Cp(可選高粘度光膠機臺)
光刻膠或顯影液管路	≤3路	設備尺寸	1500mm(W)1200mm(D)1800mm(H)

顯影機

顯影是指用還原劑把軟片或印版上經過曝光形成的潛影顯現(xiàn)出來的過程。PS版的顯影則是在印版圖文顯現(xiàn)出來的同時，獲得滿足印刷要求的印刷版面和版面性能。顯影機是將曬制好的印版通過半自動和全自動的程序將顯影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷處理設備。

產品介紹

適用于8英寸及以下晶圓的勻膠顯影工藝
最大設備配置:2套勻膠(顯影)單元、4套熱(冷)板單元
可選8寸以下多種wafer尺寸全自動勻膠/顯影,烘烤工藝處理
整機性價比高,適合產能要求適中的批量產線
根據客戶工藝需求可加裝等離子風棒等模塊
可選配MES協(xié)議轉換模塊

產品參數(shù)

主軸旋轉速度范圍:20-5000rpm
主軸加速度范圍:20-20000rpm/s
主軸轉速精度:±1rpm
熱盤溫度范圍:50℃-200℃
熱盤溫度均勻性:±1%
適用光刻膠粘度:0-1000Cp(可選高粘度光膠機臺)
光刻膠或顯影液管路:≤3路
設備尺寸:1500mm(W)x1200mm(D)x1800mm(H)

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