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微型液體氣化儀基本參數(shù)產(chǎn)品介紹
微型液體氣化儀基本參數(shù)產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品概述LVD-F1是一款適用于實驗室中CVD或DLCVD實驗的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟(jì)高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個數(shù)字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后,被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機(jī)物混合。對于研究用...

2021-06-18
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  • 用 STX 金剛石線切割機(jī)切割多孔碳材料

    用STX金剛石線切割機(jī)切割多孔碳材料實驗材料:長寬高約110×50×40㎜圖1實驗樣品實驗?zāi)康模簩⒍嗫滋疾牧显嚇忧懈畛?0×10×10㎜的方塊,用于測試多孔碳材料的性能如,倍率測試、吸附性測試、電化學(xué)性能測試、循環(huán)性能測試等。材料特性:多孔碳材料具有耐熱、耐腐蝕、無毒害、不會造成二次污染、可再生重復(fù)利用等特點(diǎn)。多孔碳材料的孔結(jié)構(gòu)高度發(fā)達(dá),具有大的比表面積,由此產(chǎn)生的優(yōu)異吸附性能,尤其是對油的吸附性。多孔碳材料硬度低,質(zhì)脆。實驗設(shè)備:STX-202AQ金剛石線切割機(jī)、MTI-3...

    20218-31
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  • 用 UNIPOL-1200M 拋光機(jī)對芯片斷面的研磨拋光

    用UNIPOL-1200M拋光機(jī)對芯片斷面的研磨拋光實驗材料:方形芯片,芯片如圖1所示:圖1實驗所用樣品圖實驗?zāi)康模簩π酒瑐?cè)面的斷面進(jìn)行研磨拋光,并觀察研磨拋光后的斷面狀況。實驗設(shè)備:科晶制造的CXQ-2500自動冷鑲嵌機(jī)、UNIPOL-1200M自動壓力研磨拋光機(jī)、4XC金相顯微鏡實驗所用耗材:金相砂紙、金剛石噴霧拋光劑實驗過程:鑲嵌:由于芯片比較薄,側(cè)面面積較小,不利于研磨拋光,又UNIPOL-1200M自動壓力研磨拋光機(jī)對樣品進(jìn)行研磨拋光時需要樣品呈圓柱狀,若原始樣品為...

    20218-30
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  • 精密研磨拋光機(jī)對球形CeO2 粉體的制備及其拋光性能的研究

    精密研磨拋光機(jī)對球形CeO2粉體的制備及其拋光性能的研究摘要:以硝酸鈰、尿素為原料,檸檬酸為表面活性劑,首先采用水熱法制備出球形CeCO3OH前驅(qū)體再經(jīng)高溫焙燒得到球形CeO2粉體。利用XRD、FT-IR、SEM及拋光試驗對CeO2粉體性能進(jìn)行表征,結(jié)果表明:以檸檬酸為表面活性劑,在180℃時水熱反應(yīng)24h,再經(jīng)800℃高溫焙燒,所制備的CeO2粉體呈球形,分散性好,粒度約為2μm,且粒度分布均勻,適合軟質(zhì)玻璃的精密拋光。關(guān)鍵詞:CeO2粉體;水熱法;球形;拋光性能隨著高精密...

    20218-27
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  • 2000℃真空感應(yīng)熔爐的產(chǎn)品特點(diǎn)有哪些?

    IMCS-2000-是一款精簡版高真空感應(yīng)熔煉&鑄造爐,可熔煉各種合金,最大熔煉量可達(dá)1kg(按Fe密度算),最高熔煉溫度可以達(dá)到2000℃,配有二次加料機(jī)構(gòu),可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行二次加料。安裝了高溫攪拌機(jī)構(gòu),可在真空或氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進(jìn)行高溫攪拌,使熔煉更加均勻。真空度可達(dá)10-6Torr(采用分子泵系統(tǒng))。此款設(shè)備是一款價格低廉的金屬研究利器。產(chǎn)品特點(diǎn)·價格便宜,低成本可在保護(hù)氣氛下進(jìn)行金屬熔煉和鑄造·最大熔煉量可達(dá)1kg(按Fe密度算)·帶有手動澆注功能,可...

    20218-26
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  • 基片清洗對旋轉(zhuǎn)涂膜的影響

    基片清洗對旋轉(zhuǎn)涂膜的影響旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),又稱勻膠機(jī)、甩膠機(jī)等,目前可應(yīng)用的領(lǐng)域很廣主要涉及微加工、生物、材料、半導(dǎo)體、制版、新能源、薄膜、光學(xué)及表面涂覆等領(lǐng)域。旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)的基本原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠體或溶液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,但涂后薄膜的質(zhì)量除與膠體或溶液的粘稠度、膠液與基片間的粘滯系數(shù)、轉(zhuǎn)數(shù)、旋涂時間有關(guān)外,與基片清洗的質(zhì)量也密切相關(guān)。本實驗主要研究在基片、溶液、旋涂參數(shù)相同的情況下基片的清洗對旋轉(zhuǎn)涂膜后的薄膜質(zhì)量的影響。實驗材料:φ...

    20218-25
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  • 汽車門框密封條檢測樣品的切割選擇—金剛石線切割機(jī)

    汽車門框密封條檢測樣品的切割選擇—金剛石線切割機(jī)汽車門框密封條是汽車密封條產(chǎn)品當(dāng)中最重要的密封條之一,在整車密封質(zhì)量評價當(dāng)中占主導(dǎo)地位。汽車門框密封條的性能檢測,有時需要選取其橫截斷面薄片作為檢測樣品。例如,截面氣泡、麻點(diǎn)、脫層裂縫、涂層等檢測。汽車門框密封條主要由起安裝固定作用的裝卡部分和起密封作用的密封部分構(gòu)成,主要原材料是三元乙丙橡膠(EPDM)。裝卡部分主要由密實膠基體組成,密實膠內(nèi)含有金屬架,起加強(qiáng)膠條定型和固定作用,防止工作中脫開或脫落。密封部分由海綿膠泡管基體組...

    20218-24
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  • 金剛石線切割機(jī)、研磨拋光機(jī)對壓電陶瓷的切割、研磨、拋 光工藝 壓電效應(yīng)

    金剛石線切割機(jī)、研磨拋光機(jī)對壓電陶瓷的切割、研磨、拋光工藝壓電效應(yīng)某些材料在機(jī)械應(yīng)力作用下,引起內(nèi)部正負(fù)電荷中心相對位移而發(fā)生極化,導(dǎo)致材料兩端表面出現(xiàn)符號相反的束縛電荷的現(xiàn)象,稱為壓電效應(yīng)。反之,當(dāng)這類材料在外電場作用下,其內(nèi)部正負(fù)電荷中心移位,又可導(dǎo)致材料發(fā)生機(jī)械變形,形變的大小與電場強(qiáng)度成正比。具有這種性能的陶瓷稱為壓電陶瓷,它的表面電荷的密度與所受的機(jī)械應(yīng)力成正比。vv壓電陶瓷作為壓電陶瓷的原材料,在晶體結(jié)構(gòu)上一定是不具有對稱中心的晶體,如氧化鉛、氧化鋯、氧化鈦、碳酸...

    20218-23
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  • 旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)在半導(dǎo)體光刻工藝中的應(yīng)用

    旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)在半導(dǎo)體光刻工藝中的應(yīng)用半導(dǎo)體光刻工藝過程要在潔凈室中進(jìn)行,且潔凈室的等級要達(dá)到半導(dǎo)體光刻工藝的要求。光刻的目的是將掩膜版的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠,再通過刻蝕將光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面。光刻工藝的基本過程:涂膠:涂膠時選用沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司制造的VTC-100PA-UV紫外光旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)將光刻膠均勻的涂在硅片表面,膜厚度與旋轉(zhuǎn)速度的平方根成反比。前烘:涂膜后使用HT-150型精密烤膠機(jī)對硅片進(jìn)行前期烘烤,去除膠內(nèi)的溶劑,從而提高膠體在硅片表面的粘附力,提高膠體薄膜...

    20218-20
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  • 鎳基高溫合金陶瓷涂層的制備及性能表征

    鎳基高溫合金陶瓷涂層的制備及性能表征摘要:以Cr2O3粉、玻璃料及黏土為原料制成料漿,通過噴涂將其涂覆在鎳基高溫合金GH44的表面,采用熱化學(xué)反應(yīng)法于1050℃保溫10min,熔燒制備出高溫陶瓷涂層。通過掃描電鏡和X射線衍射分析了高溫陶瓷涂層的表面和截面形貌以及相組成,對涂覆陶瓷層的鎳基合金的抗熱震性能、抗氧化性能以及高溫疲勞性能進(jìn)行了測試。結(jié)果表明,陶瓷涂層結(jié)構(gòu)致密,與基體結(jié)合牢固,具有良好的抗熱震性能。涂覆陶瓷層的鎳基合金其高溫抗氧化性相對于基體提高了6倍以上,其高溫疲勞...

    20218-18
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  • 用 STX-100QX 金剛石曲線切割機(jī)切割炭纖維復(fù)合材料及玻璃

    用STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)切割炭纖維復(fù)合材料及玻璃STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)形貌如圖一所示:圖一金剛石曲線切割機(jī)形貌圖由科晶設(shè)計研發(fā)的金剛石曲線切割機(jī),是我公司*使用金剛石線對非金屬及金屬材料進(jìn)行曲線切割的設(shè)備。該設(shè)備可通過編程設(shè)置切割形狀,然后金剛石線按程序所設(shè)置的路徑行走,從而切割出各種不同的形狀。該設(shè)備有效解決了一些難加工材料曲線切割的難題,如陶瓷材料、晶體材料、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、熱電材料(如碲化鉍,碲化鉛、硅鍺合金等)、...

    20218-17
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  • 用自動研磨機(jī)研磨高分子復(fù)合材料

    用自動研磨機(jī)研磨高分子復(fù)合材料實驗材料:12×12×19㎜的高分子復(fù)合材料試樣塊4塊,樣品尺寸如圖1所示;實驗?zāi)康模簩⒏叻肿訌?fù)合材料選取一組面(兩面相對)研磨并拋光。實驗設(shè)備:科晶制造的UNIPOL-802自動精密研磨拋光機(jī)、MTI-3040加熱平臺、VGT-1620QTD超聲波清洗機(jī),實驗所用設(shè)備如圖2所示;實驗耗材:水磨砂紙、合成革拋光墊、金剛石噴霧拋光劑、石蠟,實驗所用耗材如圖3所示;實驗過程:要對樣品進(jìn)行研磨首先要把樣品固定在研磨機(jī)專用載樣塊上,一般選用石蠟在載樣塊上...

    20218-16
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  • 檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備 WO3 薄膜光電性質(zhì)的影響

    檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜光電性質(zhì)的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡(luò)合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅(qū)體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導(dǎo)電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場發(fā)射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標(biāo)準(zhǔn)三電極體系進(jìn)行了光電化學(xué)測試,并進(jìn)一步討論了檸檬酸對WO3薄膜光電性能影響機(jī)理。結(jié)果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒...

    20218-13
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